物理気相成長法または物理蒸着（PVD：Physical Vapor Deposition）は、物質の表面に金属の薄膜を生成する手法のうち、物理的効果により被膜を生成する手法のことである。物理気相成長法では、圧力が低い状態である「高真空」の中で、物質を気体のように原子や分子レベルで動ける状態（気相）にする。その中で金属原子同士をぶつけ、目的とする金属を物質の表面に付着させていき、金属の薄膜の層を形成していく。